Electron-beam, X-ray and ion-beam technology: submicrometer lithographies IX - 7-8 March 1990, San Jose, California

Författare
(Douglas J. Resnick, chair/editor.)
Genre
Konferenspublikation
Språk
Engelska
Förlag År Ort Om boken ISBN
Cop. 1990 USA 344 sidor.